第十届全国高能密度热处理学术会议通知
会议主题：高能密度热处理的自主创新与科学发展
　

主办单位：全国热处理学会高能密度热处理技术委员会
会议顾问：潘健生
会议主席：张光钧，副主席：刘文今，李鲁伯
会议日期：2008年11月
会议地点：上海
   经研究决定，全国热处理学会高能密度热处理技术委员会将于2008年11月在上海主办第十届全国高能密度热处理学术会议，现面向全国征文，欢迎从事相关专业的专家学者、科研人员、高校教师和企业界人士踊跃投稿。
一、 征文范围
高能量密度热处理（含激光束、电子数、离子束、超高频、太阳能等）研究与应用的新进展，包括：
1、 高能量密度热处理的基础研究进展；
2、 高能量密度热处理新技术、新工艺、新设备；
3、 高能量密度热处理与表面改性；
4、 高能量密度热处理与修复再制造；
5、 高能量密度热处理与其他热处理工艺的复合；
6、 高能量密度热处理的过程控制；
7、 高能量密度热处理工艺与装备的集成；
8、 高能量密度热处理的发展趋势与产业化。
二、 投稿须知
   应征论文必须未经正式刊物发表，论点鲜明，论据充分，数据可靠，文字流畅。图表清楚。一般约为6000字以内（4页），并用word文件用电子邮件方式寄到会议秘书处，或在线提交投稿，也可附word文件类型的软盘邮寄到会议秘书处，投稿须注明：第十届全国高能密度热处理学术会议征文。论文经专家评审后将给予书面答复。经评审通过的论文将推荐给《材料热处理学报》及《金属热处理》杂志正式发表，具体事宜另行通知。
三、 征文截止日期：2008年4月30日
四、 论文格式：按《材料热处理学报》及《金属热处理》杂志的正式出版要求。
五、 会议秘书处
上海工程技术大学材料工程学院（激光工业技术研究所）
通讯地址：上海松江大学城龙腾路333号
邮编：201620
电话：021-67791205
电子信箱：10thgnrcl@163.com
联系人：张光钧，李文戈，李军，王慧萍，戴建强
全国热处理学会高能密度热处理技术委员会
2007年12月21日
　

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